Газоразрядные источники ионов, генерирующие протяжённые пучки. По принципу действия - ускоритель с анодным слоем (УАС). Высокая однородность распределения плотности ионного тока вдоль источника делает его оптимальным выбором для обработки подложек на барабане или карусели. Предназначены для задач очистки, активации поверхности, ионного травления, ассистирования.

Ионные источники применяются для:

  • распыления материалов из диэлектрических и проводящих мишеней;
  • ассистирования при магнетронном напылении;
  • ионной очистки, травления;
  • полировка;
  • плазмохимическое осаждение из газовой фазы (PECVD);
  • модификация поверхности. 

Описание на сайте производителя 

Паспорт устройства (.pdf 403 кб).


Ионный источник
Форма пучка Полый прямоугольный
Ширина пучка 370 мм
Толщина пучка 22 мм
Максимальный ток пучка 1000 мА
Газовая эффективность 9 мА/sccm
Энергия ионов 500..2500 эВ
Максимальная линейная плотность тока 25 мА/см
Максимальный угол расхождения пучка

Написать отзыв

Внимание: HTML не поддерживается! Используйте обычный текст!
    Плохо           Хорошо
Captcha

Источник ионов L400

  • Производитель: Beams&Plasmas
  • Код товара: ИИ-400
  • Доступность: 1
  • 413 000.00 р.

  • Без НДС: 350 000.00 р.

Доступные опции